光学材料生产用去离子水设备标准有哪些

 　光学材料主要包括手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗等等，它们在生产过程中对水质的要求较高，采用超纯水设备产出的高品质超纯水，防止带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。下面为大家讲解光学材料生产用去离子水设备标准有哪些?

　　1、研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。

　　2、研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。

　　3、其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。

　　4、根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。

　　5、在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。

　　6、玻璃研磨过后，需要用光学材料生产用去离子水设备生产的超纯水进行产品的清洗，以获得高品质的产品。

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