半导体工业用纯水指标及制水技术优势

　　在工业生产过程中通常需要采用超纯水用于器件的清洗，提高产品的质量，超纯水一般采用应用反渗透+EDI技术的工业高纯水设备制取而来，目前这种方法是适合用于制取超纯水的，根据行业的不同所需水质自然也就不同。

　　电子工业超纯水设备制水技术优势：

　　电子半导体工业在生产过程中对与超纯水的需求量也非常大，采用反渗透+EDI技术制取半导体工业用水主要有如下优势：

　　1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，且需要安全储存酸碱的车间, 再生时有大量有害废水和废弃物需处理，增加了环保和安全方面的工作困难。 而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

　　2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。

　　3、降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。

　　半导体工业用纯水指标： 

　　反渗透+EDI这种操作简便，无污染的半导体电子工业超纯水制备技术，已经被越来越多的人认可，目前也已经在众多电子工业厂家普及使用了。