半导体纯水系统保障清洗用水品质

 　　半导体是科学技术的灵魂，今年半导体和电子元件行业的经济非常火爆，原因有二：

　　一、由于产能供应不足，特别是汽车和半导体行业的需求快速增长，半导体行业的产品价格大幅上涨。

　　二、由于高端技术仍被美国公司所垄断，这为国内替代品相关公司取代替代品市场提供了一波机会，致使国内电子行业的繁荣不断上升。

　　几乎所有半导体生产过程都需要纯水清洗。工件与水直接接触，水质达不到标准水中微量杂质会再次污染芯片，对产品的影响不言而喻。随着半导体技术的不断进步，半导体生产对水中污染物的要求越来越高。自20世纪60年代末美国五家公司提出半导体纯水水质指标以来，半导体中的杂质每一代都要减少1/2~1/10。1983年和1990年美国测试与材料学会发布的电子水质标准已不能满足超大规模半导体快速发展的需要。目前，ASTM提出了新的更严格的水质指标。

　　“RO+EDI+精处理混床”工艺与传统纯水处理工艺基本相同。经过严格预处理后，原水进入RO反渗透膜系统，出水立即送至EDI装置。此时出水已达到一般工业用纯水的要求，再经过处理混床深度处理，确保出水无杂质，达到18兆欧电子纯水标准。

　　EDI是结合离子交换膜技术和离子电迁移技术的纯水制造技术。它不需要酸碱再生。这是一种新的脱盐方法。EDI纯水设备用于生产纯水，无需再生化学品，运行成本低。EDI系统自动化程度高，可以连续工作。出水水质良好稳定，出水电阻率低≥ 15mΩ·cm。结合其它预处理工艺和混床处理工艺，出水电阻率可达18.2mΩ·cm，达到工业电子纯水标准。