光学行业用超纯水设备的相关介绍

　　光学行业用超纯水设备采用反渗透技术和EDI技术相结合的制水工艺，有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、微生物等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足光学行业用水需求。

超纯水设备

　　光学行业用超纯水设备工艺流程

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

超纯水设备

　　光学行业用超纯水设备特点

　　1、零部件均采用进口产品，技术先进。

　　2、质量可靠，整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。

　　3、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

　　4、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

　　5、能耗低，水利用率高，运行成本低。

　　6、结构合理，占地面积少。

　　7、先进的膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

　　8、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

　　9、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

超纯水设备

　　以上是光学行业用超纯水设备的相关介绍。莱特莱德·环境是世界领先流体过滤与分离技术解决方案服务商。莱特莱德电子行业事业部是莱特莱德十大事业部之一，其主营产品超纯水设备主要应用于清洗去除小的杂质和颗粒，如半导体、显示器等都需要用超纯水作为清洗液体。莱特莱德电子行业事业部致力于为客户提供合适的超纯水系统解决方案。

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