半导体制造用超纯水设备的优点

　　半导体制造用超纯水设备系统采用多介质过滤器、活性炭过滤器作及保安过滤器作为前级处理，有效除去原水中的悬浮物、泥砂、微粒、有机硅胶体、有机物、异味、余氯等杂质，使经过离子交换处理后的水质符合工业生产要求。

超纯水设备

　　半导体制造用超纯水设备工艺流程

　　1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

　　2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

　　3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

超纯水设备

　　半导体制造用超纯水设备的优点

　　1、无需酸碱再生，无化学药剂使用，无酸碱废水排放，生产过程无任何污染，属清洁生产。

　　2、无需停机再生，连续生产水质稳定的高纯水。

　　3、运行稳定可靠，降低运行和维修费用。

　　4、无需派专门人员看守，易于实现设备自动化控制。

　　5、设备占地面积小，减少车间建设面积，节约场地建设费用投资。

　　6、控制系统可根据用户具体使用要求进行个性化设计，结合先进的控制软件，现场在线集中监控重要工艺操作参数，避免人工误操作，多方位确保系统长期稳定运行。

超纯水设备

　　半导体制造用超纯水设备操作简单易懂，运行经济环保，出水不含任何杂质，符合半导体制造的用水标准，深受很多厂家的欢迎。

　　相关推荐：微电子行业用超纯水设备工艺流程