芯片清洗用超纯水设备主要特点介绍

　　芯片清洗用超纯水设备是根据电子行业特殊要求而设计并制造的水处理设备，设备采用先进的配置原件，保证了设备的出水质量，满足了不同行业的用水需求。

超纯水设备

　　芯片清洗用超纯水设备工艺

　　1、采用两级反渗透方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

　　2、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

　　3、采用离子交换方式，其流程如下：

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

超纯水设备

　　芯片清洗用超纯水设备特点

　　1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。

　　2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。

　　3、降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和灵活的构造。

超纯水设备

　　用户可以根据自己的实际需要，调整设备的出水量，满足用户的实际需求。芯片清洗行业用超纯水设备现已得到广泛的应用。

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