“国产芯”再迎喜讯 超纯水设备成为行业发展的重要基石

 　　芯片是一个巨大的产业。芯片的制造过程复杂而漫长，要实现芯片自主，困难不在于一两点，而在于芯片产业上下游的诸多挑战。目前，我国的芯片陷入困境，面临着从材料到设计和制造的诸多技术壁垒。但现在我国正在慢慢突破技术，实现芯片行业的基本自主。

　　近期，我国一家半导体企业取得了新的技术突破。这项技术非常重要，是芯片制造过程中不可或缺的一部分。没有这项技术，芯片制造就无法完成。就重要性而言，这项技术不亚于光刻技术。这家企业就是盛美半导体，它近期又一次攻克了边缘湿法蚀刻技术，并生产了相应的设备。更重要的是，突破依赖于国产技术，这意味着该技术实现了该技术的自主性。此消息一出，可以说是激动人心的，不仅推动了我国芯片产业的发展，也使我国芯片自主化进程向前迈出了一大步。

　　超纯水设备成为行业发展的重要基石

　　在芯片生产过程中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一方面，芯片在加工过程中的微污染被清除，另一方面，纯水中的微杂质可能会重新污染芯片，这无疑对产品有很大的影响，因为清洗水一旦含有杂质，就会产生水垢，影响其电阻率和产量。而超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透加离子交换系统(EDI)工艺制备超纯水，具有运行成本低(大大延长了离子交换器的再生周期)和运行可靠的优点，其出水水质的电阻率可达18MΩ·cm(25℃)，完全满足芯片清洗用水的要求。

　　在不久的将来，将出现一场科技大战。为了在这场竞争中获得主动权和更多的芯片，我国现在必须在不被竞争对手困住的情况下征服一些受阻的技术。实现芯片自主性是非常重要的一部分，超纯水设备已成为行业发展的重要基石。