芯片“天天见” EDI超纯水设备时时现

 　　如今的信息时代，芯片可谓是“天天见”，我们平常使用的手机、电脑等能够正常运行就是靠着一颗小小的芯片。芯片的英文全称为integrated circuit，简称IC，是指载有集成电路的半导体元件。

　　芯片生产过程中几乎每道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不合格或水中有杂质，就会降低装置的性能，降低产量。超纯水是为了研制超纯材料应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，其电阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.2 MΩ*cm(25℃)，可以说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。传统的超纯水制取方法主要有蒸馏法和离子交换法等，其中，蒸馏法要求设备严密、产量低、能耗高;离子交换法再生失效的离子交换树脂需要大量酸碱溶液和大量的清洗水，劳动强度大。随着电子行业的不断发展，对水质的要求也越来越高，传统方法显然不适用于芯片生产制备超纯水。

　　莱特莱德EDI超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的出水电阻率达到18 MΩ.CM以上，设备不会因为树脂再生而停止运行、结构紧凑、占地面积小，可以为企业节省更多空间。EDI超纯水设备内部设有反渗透预脱盐系统，保障设备的出水水质符合芯片生产用水需求，与此同时，EDI超纯水设备废水产出量少，不会对环境造成污染，具有很高的环境效益、经济效益，发展前景广阔。