工业超纯水系统提升优“+”品质超纯水 推进绿色半导体工程

 　　近年来随着人工智能、物联网和通信等创新技术的持续发展和快速应用，我国半导体产业持续增长。半导体工业用水要求极为严苛，以满足日益小型但高速、高效的高端芯片制造要求。芯片的制造已经在纳米线宽下进行高精度的蚀刻、光刻及制作冲洗等，因此要求相对应的冲洗芯片用的超纯水的纯度越来越高、越来越苛刻。

　　既然超纯水这么重要，那么什么样的水才能算是超纯水呢?顾名思义，超纯水(UPW)是指电阻率达到18 MΩ·cm(25℃)的水。这种水中除了H2O外，几乎没有什么杂质或其他离子。不仅如此，不同行业对于超纯水的水质要求也比较严格，一般根据应用行业的性质，电导率需达12MΩ、15MΩ、17MΩ、18MΩ、18.2MΩ等不同级别的超纯水。

　　莱特莱德通过预处理装置，使原水的水质达到一个预期的指标，以满足纯化过程对源水的要求。RO系统利用压力差原理，不仅耐酸碱清洗、抗高污染，还可以加快离子迁移速度，使产水TOC在20PPB以下。能有效地去除水中的盐类，脱盐率可达到99%左右。采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。莱特莱德能够为用户提供更优品质的超纯水，能高效去除芯片表面上的残留物，防止对芯片造成腐蚀，从而提高芯片的使用寿命，更好的提升芯片的良品率。

　　制造半导体需要大量的水，在全世界对半导体的需求持续增长的情况下，优品质超纯水的应用对于推进绿色半导体工程而言是重中之重，对于中国半导体产业的长远发展同样重要。莱特莱德从专业的角度确保清洁生产为用户提供更有保障的工业超纯水系统，系统具有24h稳定运行，水质达标三年稳定不衰减等优势。