半导体频频上热搜 超纯水设备成为其重要推动力

　　近日来，关于半导体的话题络绎不绝，频频热上搜，这意味着这一年将是半导体行业迎来重要转机的一年。基于国产半导体的战略地位以及中美半导体竞争，我国提出了半导体2020年自给率提高至40%、2025年提高至70%的目标。

　　国产半导体将迎来重大机遇

　　经过国产厂商多年的追赶，我国集成电路高端关键装备已形成一定支撑能力，国产半导体设备已经完成“从0到1”的突破。但目前来看，要完成自给率目标还有很长一段距离。“十四五”将是国产半导体产业发展的关键时期，国产半导体设备将迎来国产化的重大机遇。

　　由于供不应求，半导体集成电路产能从2020年底开始出现持续紧张，导致制造、封测价格上涨，芯片交货周期延长。在产能紧缺的背景下，半导体产业有望大规模扩产，带动半导体制造设备需求旺盛。另一方面，先进半导体设备的进口一直受到限制，因此国产半导体设备的替代前景十分广阔。

　　超纯水设备成为半导体行业重要推动力

　　半导体的制造是在一级洁净度(每立方英尺的空气中最多只能有一粒直径小于0.3微米的灰尘)的环境里进行的，可见半导体元件生产过程中对于洁净度的要求有多么严格。在芯片生产过程中，影响其品质的不止有空气，还有水质。因此我国在大力发展半导体的同时，对其用水水质也提出了更高的要求，可以说超纯水设备成为了半导体行业重要推动力。

　　超纯水的生产流程是怎样的？

　　超纯水又称UP水，是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物。

　　自来水进入原水箱，通过原水泵增压，经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器，到达反渗透单元，经两级反渗透过滤进入EDI单元，抛光混床单元，EDI出水进入纯水水箱，此时水质的电阻率是15兆欧，经过抛光混床后，产水电阻率达到18兆欧，但是不进入水箱，直接进入用水点。因为水箱中若出现产水滞留，会影响产水水质。纯水供水设计为循环方式，经纯水供水泵增压，通过紫外线消毒器、抛光混床接入纯水供水管，到达使用点。

　　超纯水设备作为半导体行业生产的重要基石，是半导体制造端的重中之重。莱特莱德超纯水设备改良了传统工艺阶段供水的缺点，配备了浓水置换专业技术，防止膜系统受到微生物污染。通过完善的技术，提高系统回收率，降低能耗和运行成本。可以有效去除水中的杂质、重金属离子、细菌等有害物质，实现大量连续供应超纯水。可满足芯片生产用水的相关标准，降低企业生产的风险和成本。我们的目标是成为客户值得信赖的服务商，为客户提供不但买得起，还能用得起，更能用得好的环保解决方案!