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EDI清洗超纯水在半导体行业中的应用

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-07-03 10:37:23

  1、EDI清洗超纯水技术预处理部分

  预处理的作用是对原水进行粗加工。提供符合RO进水要求的给水。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体,使SDI≤4。去除游离氯等氧化性物质。去除部分有机物。降低LSI,避免碳酸盐结垢。

  在超纯水制造工艺中,传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。而该半导体制造厂采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分。主要原因如下:

  (1)传统的预处理过程中SDI值不好控制,一般>5,不利于后续的一级反渗透系统的运行。而超滤装置的出水SDI值比较稳定(≤1),能够有效地保证一级反渗透系统的运行。

  (2)传统的预处理方式占地面积大,而“粗过滤器+超滤装置”占地面积小,节约了基建费用。

  (3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比,超滤装置的更换比较方便。

  (4)近年来,由于超滤技术的不断成熟,系统能够稳定安全地运行,而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低,在一次性投资和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。

  2、反渗透部分

  在半导体行业中,反渗透部分多采用双级反渗透工艺。以确保后续工艺的安全性。通过双级反渗透,可去除水中超过99%的悬浮物、胶体,98%以上的溶解盐,大部分的微生物、TOC和部分CO。该半导体制造厂也采用双级反渗透工艺,同时将双级反渗透拆分成两个独立的部分,这样就更加有效地保证了系统的连续运行。即使在更换反渗透膜或在线清洗反渗透膜时。也不会造成整个工厂大面积的停水,确保了关键部位的连续用水。该半导体厂采取在一级反渗透前增加SBS、MDC加药装置。保证了一级反渗透系统的安全运行:在一级反渗透和二级反渗透之间增加一套加碱装置,可提高二级反渗透系统的脱盐率。

  3、电去离子部分

  对反渗透出水进行深度脱盐。最终产水的电阻率能>15MQ·cm。目前市场上比较常用的电去离子深度除盐装置模块有两种类型,分别为EDI模块和CEDI模块。该半导体制造厂采用CEDI模块,同时将CEDI模块分成独立的两个部分,在清洗CEDI模块或更换CEDI模块时可以分组进行,不会造成大面积的停水,确保了关键部位的连续用水。

  4、抛光混床部分

  由于半导体制造行业对超纯水的水质要求很高,故在纯水箱后输送管道上增加抛光混床,可保证EDI清洗超纯水系统产水的稳定性和一致性。实际应用中基本都是采用双级抛光混床。

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