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超纯水edi设备提纯技术应用概述

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-07-02 10:50:32

  在半导体工业中,超纯水edi设备被用在晶圆的清洁和蚀刻上。尤其是晶圆残渣,它是造成晶圆工厂中超纯水大量消耗的主要原因。在制药工业中,高纯度的水可以做为产品的成分之一,也可以在生产加工中使用。洁净室洗烫业尽管只占整个超纯水市场的一小部分份额,但是在洁净室市场中,他们却是超纯水的一个主要用户。其他对超纯水有使用要求的工业领域包括液晶显示器、生物技术以及实验室业务。

  每一种净水设备均非万能,购买前应先了解净水设备功能与当地自来水的水质状况,以免浪费金钱而又得不到预期的效果。例如某些水质并不适用于逆渗透法,在水中含氯或铁过高,可能会造成薄膜受损。又如果水中含铁过高,则会损及紫外线杀菌净水设备的效果。此外,使用净水设备时进水温度应避免过高,许多净水设备或滤心在温度高时,处理效果变差,材料也会受损并减少使用寿命。在新使用的滤心型净水设备或净水单元时(包括活性碳净水设备及阳离子交换树脂软水器)应先使用清水浸泡过至少15分钟以上,或以清水冲洗,以去除滤心中之杂质。以逆渗透净水系统而言,前置活性碳滤心及逆渗透膜各约需使用20公升左右的水冲洗,以去除碳粒及逆渗透膜保存液。

  一个典型的200mm晶片厂每个月生产近40,000个晶片,每天需要2-3百万加仑水,其中百分之七十的水用来生产超净高纯水(UHPW),这也是晶圆清洁处理的一部分。这些水大部分都被循环再利用,或是回收后用于工厂的其他领域。大约百分之二十的水用做其他非超净高纯水的用途,例如用于冷却塔和热交换器。剩下百分之十的水用在工厂中与加工过程无关的部分,例如,草地、盥洗室和洒水系统。

  制药业使用的注射用水(WFI)是经过进一步提纯的,用于医学产品和制药洁净室的清洗(CIP)。WFI水是通过蒸馏或反渗透得到的。

  洁净室洗烫业开发出了许多不同的衣服清洁方法,用来处理被人体的油污、污垢、棉绒以及化学着色污染的衣服,只留下非常少的表面残留物。这些开发大多数都是有技术的,尤其是水(或溶剂)抛光、洗涤用的化学药品和配方。其它的进步是由于洗烫环境发展到了现代洁净室水平而出现的。穿整套洁净外套的工人、经HEPA过滤的房间和干燥的空气、不易脱落的房间和工作表面、隔离式洗衣机(BARRIERWASHER)、封袋机以及在处理和传输过程中对衣服的保护,都对洁净室服装的质量产生影响。洁净室洗烫基本的要求是,他们的清洁设备要和使用服装的洁净室的清洁设备一样好或是更好。这就必须使用高纯度的水。

  典型的半导体工业超纯水edi设备包括反渗透、离子交换、控制仪器、除气设备、过滤设备、水泵、阀门、储存、管路和消毒。超纯水edi设备的每个组成部分都一直保持高度的纯洁是至关重要的

  超纯水edi设备净水滤心的更换频率,通常可由厂商提供的操作维护手册中得知,但必须注意通常厂商所用的水质条件及产水量是在标准的状况下。使用者必须注意当地的水质状况及每天用水量是否与厂商资料不同,如果原水中污染物浓度愈高,用水量愈大,则更换滤心换频率应愈高。使用者必须特别注意,即使滤心更换时间未到,但清水水质明显变化、口感变差或系统的产水量降低,则必须检查可能造成的原因,例如管线连接不当、管线或滤心破裂,必要时必须更换管线或滤心。此外,逆渗透净水设备前置粒状物滤心更换时机除操作说明书上机外,若由肉眼判断滤心已严重变成土黄色时,应考虑更换。