超纯水edi设备提纯技术应用概述

　　在半导体工业中，超纯水edi设备被用在晶圆的清洁和蚀刻上。尤其是晶圆残渣，它是造成晶圆工厂中超纯水大量消耗的主要原因。在制药工业中，高纯度的水可以做为产品的成分之一，也可以在生产加工中使用。洁净室洗烫业尽管只占整个超纯水市场的一小部分份额，但是在洁净室市场中，他们却是超纯水的一个主要用户。其他对超纯水有使用要求的工业领域包括液晶显示器、生物技术以及实验室业务。

　　每一种净水设备均非万能，购买前应先了解净水设备功能与当地自来水的水质状况，以免浪费金钱而又得不到预期的效果。例如某些水质并不适用于逆渗透法，在水中含氯或铁过高，可能会造成薄膜受损。又如果水中含铁过高，则会损及紫外线杀菌净水设备的效果。此外，使用净水设备时进水温度应避免过高，许多净水设备或滤心在温度高时，处理效果变差，材料也会受损并减少使用寿命。在新使用的滤心型净水设备或净水单元时(包括活性碳净水设备及阳离子交换树脂软水器)应先使用清水浸泡过至少15分钟以上，或以清水冲洗，以去除滤心中之杂质。以逆渗透净水系统而言，前置活性碳滤心及逆渗透膜各约需使用20公升左右的水冲洗，以去除碳粒及逆渗透膜保存液。

　　一个典型的200mm晶片厂每个月生产近40,000个晶片，每天需要2-3百万加仑水，其中百分之七十的水用来生产超净高纯水(UHPW)，这也是晶圆清洁处理的一部分。这些水大部分都被循环再利用，或是回收后用于工厂的其他领域。大约百分之二十的水用做其他非超净高纯水的用途，例如用于冷却塔和热交换器。剩下百分之十的水用在工厂中与加工过程无关的部分，例如，草地、盥洗室和洒水系统。

　　制药业使用的注射用水(WFI)是经过进一步提纯的，用于医学产品和制药洁净室的清洗(CIP)。WFI水是通过蒸馏或反渗透得到的。

　　洁净室洗烫业开发出了许多不同的衣服清洁方法，用来处理被人体的油污、污垢、棉绒以及化学着色污染的衣服，只留下非常少的表面残留物。这些开发大多数都是有技术的，尤其是水(或溶剂)抛光、洗涤用的化学药品和配方。其它的进步是由于洗烫环境发展到了现代洁净室水平而出现的。穿整套洁净外套的工人、经HEPA过滤的房间和干燥的空气、不易脱落的房间和工作表面、隔离式洗衣机(BARRIERWASHER)、封袋机以及在处理和传输过程中对衣服的保护，都对洁净室服装的质量产生影响。洁净室洗烫基本的要求是，他们的清洁设备要和使用服装的洁净室的清洁设备一样好或是更好。这就必须使用高纯度的水。

　　典型的半导体工业超纯水edi设备包括反渗透、离子交换、控制仪器、除气设备、过滤设备、水泵、阀门、储存、管路和消毒。超纯水edi设备的每个组成部分都一直保持高度的纯洁是至关重要的

　　超纯水edi设备净水滤心的更换频率，通常可由厂商提供的操作维护手册中得知，但必须注意通常厂商所用的水质条件及产水量是在标准的状况下。使用者必须注意当地的水质状况及每天用水量是否与厂商资料不同，如果原水中污染物浓度愈高，用水量愈大，则更换滤心换频率应愈高。使用者必须特别注意，即使滤心更换时间未到，但清水水质明显变化、口感变差或系统的产水量降低，则必须检查可能造成的原因，例如管线连接不当、管线或滤心破裂，必要时必须更换管线或滤心。此外，逆渗透净水设备前置粒状物滤心更换时机除操作说明书上机外，若由肉眼判断滤心已严重变成土黄色时，应考虑更换。