工业超纯水工程的方案设计

　　纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.18MΩ*cm(25℃)。

　　一、进水参数

　　工业超纯水设备源水：城市自来水、地下水(需要检测水样)、进水压力>0.3MPa，进水电导率<800us/cm;进水电导率>800us/cm时，建议使用双级反渗透。

　　1、设计参数：100升/天到50吨每天

　　2、出水标准：国家一级或二级电子用超纯水标准

　　二、工艺流程

　　采用反渗透加去离子方法：源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→阳树脂软化器→精密过滤器→一级RO反渗透纯水系统→中间水箱→增压泵→一级混床→二级精混床→微滤器→用水点

　　采用去离子方法：源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→阳树脂软化器→精密过滤器→阳床→阴床→混床→用水点

　　采用反渗透加电去离子方法：源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→阳树脂软化器→精密过滤器→一级RO反渗透纯水系统→中间水箱→增压泵→电去离子装置(EDI)→微滤器→用水点

　　三、设计方案

　　1、第一级预处理系统：采用石英砂多介质过滤器，主要目的是去除源水中含有的泥沙、铁锈、胶体物质、悬浮物等颗粒在20m以上对人体有害的物质，系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。

　　2、第二级预处理系统：采用果壳活性碳过滤器，目的是为了去除水中的色素、异味、生化有机物、降低水的余氯值及农药污染和其他对人体有害的污染物。系统可以自动(手动)进行反冲洗，正冲洗等一系列操作。

　　3、第三级预处理系统：采用阳树脂对水进行软化，主要是降低水的硬度，去除水中的钙、镁离子(形成水垢的主要成分)，可有效延长反渗透膜的使用寿命，并可进行智能化树脂再生。

　　4、第四级预处理系统：采用5um孔径精密过滤器，使水得到进一步的净化，使水的浊度和色度达到优化。保证RO系统进水条件要求，保证设备的产水质量，延长设备的使用寿命。

　　5、反渗透设备主机：采用反渗透技术进行深度脱盐处理(进口美国反渗透膜)去除钙、镁、铅、汞等对人体有害的重金属物质及其他杂质，降低水的硬度，脱盐率达99%以上，生产出符合国家标准的纯净水。

　　6、去离子主机：通过一级反渗透处理过的水，进入纯水箱，通过纯水泵，将纯水泵入到下一级混床，经一级混床出来的水质大都可低于1us/cm,如果对水质有更高的要求，则可用二级精混床进行处理，经二级混床处理后的水质电导可低于0.1us/cm,甚至至更高。

　　7、微过滤装置：安装该装置主要是为防止微粒树脂颗粒从布水中滤出，造成二次水质污染，这主要是运用在对水质特别高的场合。

　　8、杀菌系统：采用臭氧发生器(或紫外线杀菌器)，减少细菌二次污染，灭菌率可达99%以上，同时臭氧溶于水形成富氧水，保证水的纯鲜。采用水气混合器使臭氧充分与水混合，达到适宜浓度比。