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单晶硅清洗超纯水设备

单晶硅清洗超纯水设备

  从19世纪科学家们发现了晶体硅的半导体特性后,它几乎改变了一切,甚至人类的思维。直到上世纪60年代开始,硅材料就取代了原有锗材料。硅材料――因其具有耐高温和抗辐射性能较好,特别适宜制作大功率器件的特性而成为应用很多的一种半导体材料,目前的集成电路半导体器件大多数是用硅材料制造的

  现在,我们的生活中处处可见“硅”的身影和作用,晶体硅太阳能电池是近15年来形成产业化很快的。

  熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。

  单晶硅的制法通常是先制得多晶硅或无定形硅,然后用直拉法或悬浮区熔法从熔体中生长出棒状单晶硅。单晶硅棒是生产单晶硅片的原材料,随着国内和国际市场对单晶硅片需求量的快速增加,单晶硅棒的市场需求也呈快速增长的趋势。

超纯水设备

  单晶硅圆片按其直径分为6英寸、8英寸、12英寸(300毫米)及18英寸(450毫米)等。直径越大的圆片,所能刻制的集成电路越多,芯片的成本也就越低。但大尺寸晶片对材料和技术的要求也越高。单晶硅按晶体生长方法的不同,分为直拉法(CZ)、区熔法(FZ)和外延法。直拉法、区熔法生长单晶硅棒材,外延法生长单晶硅薄膜。直拉法生长的单晶硅主要用于半导体集成电路、二极管、外延片衬底、太阳能电池。目前晶体直径可控制在Φ3~8英寸。区熔法单晶主要用于高压大功率可控整流器件领域,广泛用于大功率输变电、电力机车、整流、变频、机电一体化、节能灯、电视机等系列产品。目前晶体直径可控制在Φ3~6英寸。外延片主要用于集成电路领域。

  由于成本和性能的原因,直拉法(CZ)单晶硅材料应用广。在IC工业中所用的材料主要是CZ抛光片和外延片。存储器电路通常使用CZ抛光片,因成本较低。逻辑电路一般使用价格较高的外延片,因其在IC制造中有更好的适用性并具有消除Latch-up的能力。

  单晶硅也称硅单晶,是电子信息材料中基础性材料,属半导体材料类。单晶硅已渗透到国民经济和国防科技中各个领域,当今全球超过2000亿美元的电子通信半导体市场中95%以上的半导体器件及99%以上的集成电路用硅。

  多晶硅是由许多硅原子及许多小的晶粒组合而成的硅晶体。由于各个晶粒的排列方向彼此不同,其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深银灰色,不透明,具有金属光泽,性脆,常温下不活泼。

  多晶硅是用金属硅(工业硅)经化学反应、提纯,再还原得到的高纯度材料(也叫还原硅)。目前世界上多晶硅生产的方法主要有改良西门子法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2热分解法、SiCl4法等多晶硅生产工艺。

  当前全球多晶硅的市场状况是:从国际上来看,早几年多晶硅还处于供过于求的局面,2004年开始,由于太阳能产业的发展,太阳能用多晶硅供不应求,导致全球多晶硅供应紧张。在国内,我国多晶硅生产长期不能满足国内市场需要,严重依赖于进口。

  设备处理工艺

  原水箱→原水提升泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透→级间水箱→二级高压泵→中间水箱→EDI提升泵→微孔过滤器→EDI系统→EDI水箱→抛光混床→用水点

  设备处力:按客户要求设计

 

  出水指标:≥18.2MΩ.CM

  产水用途

  在太阳能电池、单晶硅多晶硅硅片硅材料清洗、LED、LCD、光电光学行业领域,莱特莱德水处理设备公司拥有多年的LED、LCD、光电光学行业脱盐水和超纯水设备的设计、安装、调试和售后服务的成功经验。

  在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI水处理工艺,确保处理后的超纯水水质符合要求,水利用率高,运行可靠,经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

  我们公司专业生产反渗透+EDI超纯水设备,有多年的生产经验,尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多各行业的水处理设备,这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势,在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在LED、LCD、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置,得到了业界的广泛赞誉,欢迎广大客户前来参观考察。

 

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