化工用超纯水设备净化法流程描述

　　电子、半导体工业的芯片生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。如果化工用超纯水设备水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。此外，晶元清洗和机械碾磨过程中都会产生废水，造成对环境的污染。

　　采用“物理”净化法(超滤→反渗透→EDI→抛光混床)，使超纯水制备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命，从此进入了一个无需再生化学品的时代。膜法制备出来的工业纯水，其纯度可达到18MΩ·CM，且系统稳定，使用寿命长，且生产过程所产生的废水又可回用再生。

　　化工用超纯水设备原水预处理系统：

　　作为化工用超纯水设备生产的依托是非常重要的。所以要生产超纯水一定是要选择原水水质比较好的地方。现在采用的水处理工艺都是采用的反渗透系统。经过处理后的水一般能达到90%——99%的脱盐率。下面我介绍一下这个系统的组成部件。

　　1、原水泵

　　原水泵是为原水预处理系统提供原水压力的作用。如果原水有压力就完全可以不用这个设备。一般要求原水压力>=0.3MP。

　　2、原水箱

　　原水箱的作用更简单，是储存原水用的。这是怕原水万一供不上作一个中转。

　　3、石英砂过滤器

　　这个设备主要是过滤水中的微生物、尘土使原水达到清澈的目的。

　　4、活性炭过滤器

　　该设备主要是过滤水中的余氯。

　　5、加药系统(阴阳离子交换系统)

　　以前化工用超纯水设备系统为阴阳离子交换系统，但是操作起来非常不容易且费工，费料。现在改为加药系统直接向里添加阻垢剂。