光电行业全自动超纯水设备典型工艺流程

　　光电材料在生产、加工、清洗时需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对全自动超纯水设备处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

　　全自动超纯水设备工艺流程

　　预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)

　　预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)

　　预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)

　　预处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)

　　全自动超纯水设备应用场合

　　电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

　　电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

　　显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

　　黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

　　液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

　　晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制。

　　集成电路生产中高纯水清洗硅片。

　　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

　　LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏。

　　半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

　　超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料。

　　全自动超纯水设备是常见的光电行业制取纯水的设备，凭其稳定的出水效果，耗能低，运行成本低深受大家喜爱。