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edi高纯水设备的清洗、消毒方法解析

文章出处:EDI水处理作者:EDI水处理发表时间:2013-01-30 14:10:35

  EDI高纯水设备是目前较为先进的纯水制取装置,在各个行业中应用广泛。由于它采用了现今国际上先进的膜分离技术和EDI模块,因此该设备与其它设备相比价位较高。为了节省用户使用成本,建议用户采用科学的方法对其进行维护,延长设备使用寿命。

  EDI高纯水设备在清洗时化学药剂选择注意事项

  在使用药剂清洗时需要遵循生产商建议的药剂使用量、PH值和温度等标准进行添加。尽量少使用强烈化学药剂,对于CPA、ESPA膜清洗时通常规定水质PH值在4~10范围内,设备清洗温度保持在30~40℃以下。在清洗时不要将酸碱混合,如果出现油污染,不要使用低PH值的清洗药剂,

  超纯水设备中二氧化硅垢的化学清洗方式

  二氧化硅垢沉淀在膜上很难清洗。首先,在清洗前需要查看膜元件的清洗说明书,不同材质的膜元件清洗方式和药剂选择会有很大区别,避免出现清洗方式错误导致膜元件受到损坏。冲洗的水流速度要快。对于CPA膜的清洗要选择PH值在10~12之间的碱性溶液并设置温度在40℃左右,这样才有利于硅垢的去除。

  对EDI高纯水设备进行消毒处理

  长期运行的EDI高纯水设备会由于装置内某种配件中污染物质长期堆积,导致大面积细菌的滋生,从而严重影响产水的质量,所以此时需要对该设备进行消毒处理,可以把设备中能够卸掉的配件拆下,进行单独消毒处理,这样可以保证杀菌的彻底性。在消毒技术的选择上,可以根据用户具体需求和设备受污染程度而定。紫外线消毒工艺是目前杀菌速度较快,而且不会产生污染的一种杀菌技术,该消毒工艺以它特有的优势得到了客户的青睐。

  超纯水制取设备用处广,为了降低企业在水处理方面的成本投资,建议大家使用正确的方式对设备进行维护,使其性能得以发挥。